Seniorprofessor Halbleitertechnik
Organisation: Forschungs-/Arbeitsgruppe
Ehemalige Einrichtung
Aktiv bis. 30 Sept. 2022.
Verknüpfte Inhalte und Forschende (öffentliche Profile)
- Veröffentlichungen
- Zeitschriften
Design Enablement Flow for Circuits with Inherent Obfuscation based on Reconfigurable Transistors
Trommer, J., Bhattacharjee, N., Mikolajick, T., Huhn, S., Merten, M., Djeridane, M. E., Hassan, M., & 9 weitereDrechsler, R., Rai, S., Kavand, N., Darjani, A., Kumar, A., Sessi, V., Drescher, M., Kolodinski, S. & Wiatr, M., 2023, 2023 Design, Automation and Test in Europe Conference and Exhibition, DATE 2023 - Proceedings. Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc., (Design, Automation and Test in Europe Conference and Exhibition (DATE)).Publikation: Beitrag in Buch/Konferenzbericht/Sammelband/Gutachten › Beitrag in Konferenzband › Beigetragen › Begutachtung
Combined proton radiography and irradiation for high-precision preclinical studies in small animals
Schneider, M., Bodenstein, E., Bock, J., Dietrich, A., Gantz, S., Heuchel, L., Krause, M., & 8 weitereLühr, A., von Neubeck, C., Nexhipi, S., Schürer, M., Tillner, F., Beyreuther, E., Suckert, T. & Müller, J. R., 31 Aug. 2022, in: Frontiers in oncology. 12, 982417.Publikation: Beitrag in Fachzeitschrift › Forschungsartikel › Beigetragen › Begutachtung
In situ studies on atomic layer etching of aluminum oxide using sequential reactions with trimethylaluminum and hydrogen fluoride
Reif, J., Knaut, M., Killge, S., Albert, M., Mikolajick, T. & Bartha, J. W., 1 Mai 2022, in: Journal of Vacuum Science & Technology A. 40, 3, 032602.Publikation: Beitrag in Fachzeitschrift › Forschungsartikel › Beigetragen › Begutachtung
Endurance improvements and defect characterization in ferroelectric FETs through interface fluorination
Raffel, Y., Olivo, R., Lederer, M., Muller, F., Hoffmann, R., Ali, T., Mertens, K., & 7 weiterePirro, L., Drescher, M., Beyer, S., Kampfe, T., Seidel, K., Eng, L. M. & Heitmann, J., 2022, 2022 IEEE International Memory Workshop (IMW). Dresden, (IEEE International Memory Workshop (IMW)).Publikation: Beitrag in Buch/Konferenzbericht/Sammelband/Gutachten › Beitrag in Konferenzband › Beigetragen › Begutachtung
In vacuo studies on plasma-enhanced atomic layer deposition of cobalt thin films
Reif, J., Knaut, M., Killge, S., Winkler, F., Albert, M. & Bartha, J. W., Jan. 2020, in: Journal of vacuum science & technology. A. Vacuum, surfaces, and films. 38, 1Publikation: Beitrag in Fachzeitschrift › Forschungsartikel › Beigetragen › Begutachtung
Frontiers in Oncology
ISSNs: 2234-943X
Frontiers Media S.A.
Scopus-Bewertung (2023): CiteScore 6,2 SJR 1,066 SNIP 0,831
In DOAJ indiziert
Fachzeitschrift: Zeitschrift
Journal of vacuum science & technology. A. Vacuum, surfaces, and films
ISSNs: 0734-2101
Weitere durchsuchbare ISSN (elektronisch): 1520-8559
AVS Science and Technology Society, USA/Vereinigte Staaten
Scopus-Bewertung (2023): CiteScore 5,1 SJR 0,569 SNIP 0,957
Fachzeitschrift: Zeitschrift