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Forschungsportal der TU Dresden

In vacuo studies on plasma-enhanced atomic layer deposition of cobalt thin films

Publikation: Beitrag in Fachzeitschrift › Forschungsartikel › Beigetragen › Begutachtung

Beitragende

Johanna Reif - , Institut für Halbleiter- und Mikrosystemtechnik (IHM) (Autor:in)
Martin Knaut - , Professur für Halbleitertechnik (Autor:in)
Sebastian Killge - , Seniorprofessor Halbleitertechnik, Institut für Halbleiter- und Mikrosystemtechnik (IHM) (Autor:in)
Felix Winkler - , Institut für Halbleiter- und Mikrosystemtechnik (IHM), Seniorprofessor Halbleitertechnik, Professur für Halbleitertechnik (Autor:in)
Matthias Albert - , Professur für Halbleitertechnik (Autor:in)
Johann W. Bartha - , Institut für Halbleiter- und Mikrosystemtechnik (IHM) (Autor:in)

Details

Originalsprache	Englisch
Fachzeitschrift	Journal of vacuum science & technology. A. Vacuum, surfaces, and films
Jahrgang	38
Ausgabenummer	1
Publikationsstatus	Veröffentlicht - Jan. 2020
Peer-Review-Status	Ja

Externe IDs

Scopus	85077445776

Schlagworte