Material development of doped hafnium oxide for non-volatile ferroelectric memory application

Publikation: Hochschulschrift/Abschlussarbeit › Dissertation

Beitragende

Titel in Übersetzung
Materialentwicklung von dotiertem Hafniumoxid für die Anwendung in nicht-flüchtigen Speichern

Details

OriginalspracheEnglisch
QualifizierungsstufeDr. rer. nat.
Gradverleihende Hochschule
Betreuer:in / Berater:in
  • Eng, Lukas, Gutachter:in
  • Kämpfe, Thomas, Betreuer:in
  • Noheda, Beatriz, Gutachter:in, Externe Person
Datum der Verteidigung (Datum der Urkunde)6 Mai 2022
PublikationsstatusVeröffentlicht - 16 Juni 2022
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Schlagworte

Forschungsprofillinien der TU Dresden