Nanostructured Er₂O₃ thin films grown by metalorganic chemical vapour deposition

Xu, K., Dang, V. S., Ney, A., De Los Arcos, T. & Devi, A., Juli 2014, in: Journal of nanoscience and nanotechnology. 14, 7, S. 5095-5102 8 S.

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F-doped Co₃O₄ photocatalysts for sustainable H₂ generation from water/ethanol

Gasparotto, A., Barreca, D., Bekermann, D., Devi, A., Fischer, R. A., Fornasiero, P., Gombac, V., & 5 weitereLebedev, O. I., MacCato, C., Montini, T., Van Tendeloo, G. & Tondello, E., 7 Dez. 2011, in: Journal of the American Chemical Society. 133, 48, S. 19362-19365 4 S.

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Growth and crystallization of TiO₂ thin films by atomic layer deposition using a novel amido guanidinate titanium source and tetrakis-dimethylamido-titanium

Reiners, M., Xu, K., Aslam, N., Devi, A., Waser, R. & Hoffmann-Eifert, S., 13 Aug. 2013, in: Chemistry of materials. 25, 15, S. 2934-2943 10 S.

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Transition metal nitride thin films grown by MOCVD using amidinato based complexes [M(N^tBu)₂{(ⁱPrN)₂CMe}₂] (M=Mo, W) as precursors

Srinivasan, N. B., Thiede, T. B., de los Arcos, T., Gwildies, V., Krasnopolski, M., Becker, H. W., Rogalla, D., & 2 weitereDevi, A. & Fischer, R. A., 15 Sept. 2013, in: Surface and Coatings Technology. 230, S. 130-136 7 S.

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Atomic layer deposition of Er₂O₃ thin films from Er tris-guanidinate and water: Process optimization, film analysis and electrical properties

Xu, K., Chaudhuri, A. R., Parala, H., Schwendt, D., Arcos, T. D. L., Osten, H. J. & Devi, A., 7 Juli 2013, in: Journal of Materials Chemistry C. 1, 25, S. 3939-3946 8 S.

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Sensing and electrocatalytic activity of tungsten disulphide thin films fabricated via metal-organic chemical vapour deposition

Wree, J. L., Glauber, J. P., Öhl, D., Niesen, A., Kostka, A., Rogalla, D., Schuhmann, W., & 1 weitereDevi, A., 28 Aug. 2021, in: Journal of Materials Chemistry C. 9, 32, S. 10254-10265 12 S.

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Cobalt Metal ALD: Understanding the mechanism and role of zinc alkyl precursors as reductants for low-resistivity co thin films

Zanders, D., Liu, J., Obenlüneschloß, J., Bock, C., Rogalla, D., Mai, L., Nolan, M., & 2 weitereBarry, S. T. & Devi, A., 13 Juli 2021, in: Chemistry of materials. 33, 13, S. 5045-5057 13 S.

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A carbene stabilized precursor for the spatial atomic layer deposition of copper thin films

Boysen, N., Misimi, B., Muriqi, A., Wree, J. L., Hasselmann, T., Rogalla, D., Haeger, T., & 4 weitereTheirich, D., Nolan, M., Riedl, T. & Devi, A., 18 Nov. 2020, in: Chemical communications. 56, 89, S. 13752-13755 4 S.

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A Rare Low-Spin Co^IV Bis(β-silyldiamide) with High Thermal Stability: Steric Enforcement of a Doublet Configuration

Zanders, D., Bačić, G., Leckie, D., Odegbesan, O., Rawson, J., Masuda, J. D., Devi, A., & 1 weitereBarry, S. T., 10 Aug. 2020, in: Angewandte Chemie - International Edition. 59, 33, S. 14138-14142 5 S.

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From Precursor Chemistry to Gas Sensors: Plasma-Enhanced Atomic Layer Deposition Process Engineering for Zinc Oxide Layers from a Nonpyrophoric Zinc Precursor for Gas Barrier and Sensor Applications

Mai, L., Mitschker, F., Bock, C., Niesen, A., Ciftyurek, E., Rogalla, D., Mickler, J., & 5 weitereErig, M., Li, Z., Awakowicz, P., Schierbaum, K. & Devi, A., 1 Juni 2020, in: Small. 16, 22, 1907506.

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