Interplay between ferroelectric and resistive switching in doped crystalline HfO2
Publikation: Beitrag in Fachzeitschrift › Forschungsartikel › Beigetragen › Begutachtung
Beitragende
Details
| Originalsprache | Englisch |
|---|---|
| Fachzeitschrift | Journal of applied physics |
| Jahrgang | 123 |
| Ausgabenummer | 13 |
| Publikationsstatus | Veröffentlicht - 7 Apr. 2018 |
| Peer-Review-Status | Ja |
Externe IDs
| Scopus | 85045108687 |
|---|---|
| ORCID | /0000-0003-3814-0378/work/142256128 |