Erratum: Ferroelectric thin films: Review of materials, properties, and applications (Journal of Applied Physics (2006) 100 (051606))

Publikation: Spezielle Publikationen/Beiträge › Korrekturen (Errata und Widerrufe) › Begutachtung

Beitragende

  • N. Setter - , École Polytechnique Fédérale de Lausanne (Autor:in)
  • D. Damjanovic - , École Polytechnique Fédérale de Lausanne (Autor:in)
  • L. Eng - , Professur für Experimentalphysik/Photophysik (Autor:in)
  • G. Fox - , Ramtron Int. Corp. (Autor:in)
  • S. Gevorgian - , Chalmers University of Technology, Ericsson AB (Autor:in)
  • S. Hong - , Samsung (Autor:in)
  • A. Kingon - , North Carolina State University (Autor:in)
  • H. Kohlstedt - , Forschungszentrum Jülich, University of California at Berkeley (Autor:in)
  • N. Y. Park - , Samsung (Autor:in)
  • G. B. Stephenson - , Argonne National Laboratory (Autor:in)
  • I. Stolitchnov - , École Polytechnique Fédérale de Lausanne (Autor:in)
  • A. K. Taganstev - , École Polytechnique Fédérale de Lausanne (Autor:in)
  • D. V. Taylor - , École Polytechnique Fédérale de Lausanne, Nanosys Inc. (Autor:in)
  • T. Yamada - , École Polytechnique Fédérale de Lausanne (Autor:in)
  • S. Streiffer - , Argonne National Laboratory (Autor:in)

Details

OriginalspracheEnglisch
Band100
Ausgabenummer10
FachzeitschriftJournal of applied physics
PublikationsstatusVeröffentlicht - 2006
Peer-Review-StatusJa
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Schlagworte

ASJC Scopus Sachgebiete