Built-In Bias Generation in Anti-Ferroelectric Stacks: Methods and Device Applications

Publikation: Beitrag in Fachzeitschrift › Forschungsartikel › Beigetragen › Begutachtung

Beitragende

M. Pesic - , Fakultät Elektrotechnik und Informationstechnik (Autor:in)
T. Li - (Autor:in)
V. Di Lecce - (Autor:in)
M. Hoffmann - (Autor:in)
M. Materano - , Professur für Nanoelektronik (Autor:in)
C. Richter - (Autor:in)
B. Max - , Arbeitsgruppe Cool Silicon, Professur für Nanoelektronik, Institut für Halbleiter- und Mikrosystemtechnik (IHM) (Autor:in)
S. Slesazeck - (Autor:in)
U. Schroeder - (Autor:in)
L. Larcher - (Autor:in)
T. Mikolajick - , Professur für Nanoelektronik (Autor:in)

Originalsprache	Englisch
Seiten (von - bis)	1019-1025
Seitenumfang	7
Fachzeitschrift	IEEE journal of the Electron Devices Society
Jahrgang	6
Publikationsstatus	Veröffentlicht - 2018
Peer-Review-Status	Ja

Scopus	85045743254