Area-selective atomic layer deposition of Ru on electron-beam-written Pt (C) patterns versus SiO2 substratum

Publikation: Beitrag in Fachzeitschrift › Forschungsartikel › Beigetragen › Begutachtung

Beitragende

Details

OriginalspracheEnglisch
FachzeitschriftNanotechnology
Jahrgang28
Ausgabenummer39
PublikationsstatusVeröffentlicht - 27 Sept. 2017
Peer-Review-StatusJa

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