Professur für Materialchemie (gB/IFW)
Organisation: Gemeinsame Berufung
Organisationsprofil
Inhaber:in der Professur: Prof. Anjana Devi, Ph.D.
Verknüpfte Inhalte und Forschende (öffentliche Profile)
- Veröffentlichungen
- Zeitschriften
Atomic and Molecular Layer Deposition of Nd- and Eu-Based Oxide and Hybrid Thin Films: Computationally Guided Precursor Selection
Preischel, F., Ghazy, A., Seren, M., Obenlüneschloß, J., Mullins, R., Rogalla, D. & Gemming, T. & 4 weitere, Nolan, M., Debus, J., Karppinen, M. & Devi, A., 12 Mai 2026, in: Chemistry of materials. 38, 9, S. 4422-4436 15 S.Publikation: Beitrag in Fachzeitschrift › Forschungsartikel › Beigetragen › Begutachtung
Amido-Amine Co(II) Precursor-Based Atomic/Molecular Layer Deposition Processes for Cobalt-Organic Thin Films and Their Thermal Conversion to CoO Thin Films
Jussila, T., Obenlüneschloß, J., Liu, J., Partanen, O., Vasala, S., Rogalla, D. & Glatzel, P. & 3 weitere, Nolan, M., Devi, A. & Karppinen, M., 6 Mai 2026, in: Advanced materials technologies. 11, 9, e02272.Publikation: Beitrag in Fachzeitschrift › Forschungsartikel › Beigetragen › Begutachtung
Structuring large area WS2 layers grown by atomic layer deposition
Doman, L., Boysen, N., Gemming, T., Shi, H. & Devi, A., 1 Mai 2026, in: Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces and Films. 44, 3, 032203.Publikation: Beitrag in Fachzeitschrift › Forschungsartikel › Beigetragen › Begutachtung
A Liquid Ge(IV) Precursor for Low Temperature Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition of Germanium Oxide Thin Films
Preischel, F., Rönnby, K., Wilken, M., Glauber, J. P., Froeschke, S., Rogalla, D. & Gemming, T. & 4 weitere, Popov, A. A., Dement, P., Nolan, M. & Devi, A., 7 Apr. 2026, in: Small. 22, 20, e11982.Publikation: Beitrag in Fachzeitschrift › Forschungsartikel › Beigetragen › Begutachtung
Defect Engineering in Atomic-Layer-Deposited Cerium Oxide
Tschammer, R., Schmickler, M., Kosto, Y., Henkel, K., Kaur, P., Devi, A. & Morales, C. & 1 weitere, Flege, J. I., 1 Apr. 2026, in: ACS applied materials & interfaces. 18, 12, S. 18380-18393 14 S.Publikation: Beitrag in Fachzeitschrift › Forschungsartikel › Beigetragen › Begutachtung
Applied Surface Science Advances
ISSNs: 2666-5239
Weitere durchsuchbare ISSN (elektronisch): 2666-5239
Elsevier Science B.V., Niederlande
Scopus-Bewertung (2025): CiteScore 15,4 SJR 1,558 SNIP 2,088
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Fachzeitschrift: Zeitschrift
Chemistry methods : new approaches to solving problems in chemistry
ISSNs: 2628-9725
Weitere durchsuchbare ISSN (elektronisch): 2628-9725
Wiley-VCH, Weinheim [u. a.], Deutschland
Scopus-Bewertung (2025): CiteScore 4,2 SJR 0,856 SNIP 0,86
Fachzeitschrift: Zeitschrift
Angewandte Chemie : a journal of the Gesellschaft Deutscher Chemiker ; International edition
ISSNs: 1433-7851, 0570-0833
Weitere durchsuchbare ISSN (elektronisch): 1521-3773
Wiley & Sons, Chichester [u. a.], Deutschland
Scopus-Bewertung (2025): CiteScore 25,7 SJR 5,495 SNIP 2,492
Fachzeitschrift: Zeitschrift
Advanced materials interfaces
ISSNs: 1521-3862, 0948-1907, 2196-7350
Weitere durchsuchbare ISSN (elektronisch): 2196-7350
Wiley & Sons, Chichester [u. a.]
Scopus-Bewertung (2025): CiteScore 9,6 SJR 1,053 SNIP 0,901
In DOAJ indiziert
Fachzeitschrift: Zeitschrift
Inorganic Chemistry
ISSNs: 0020-1669
Weitere durchsuchbare ISSN (elektronisch): 1520-510X
American Chemical Society
Scopus-Bewertung (2025): CiteScore 7,5 SJR 0,879 SNIP 0,873
Fachzeitschrift: Zeitschrift