Wetting resistance at its topographical limit: The benefit of mushroom and serif T structures
Publikation: Beitrag in Fachzeitschrift › Forschungsartikel › Beigetragen › Begutachtung
Beitragende
Details
Originalsprache | Englisch |
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Seiten (von - bis) | 1100-1112 |
Seitenumfang | 13 |
Fachzeitschrift | Langmuir |
Ausgabenummer | 4 |
Publikationsstatus | Veröffentlicht - 2013 |
Peer-Review-Status | Ja |
Externe IDs
researchoutputwizard | legacy.publication#77162 |
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Scopus | 84873123615 |
ORCID | /0000-0003-0189-3448/work/159607148 |
Schlagworte
Schlagwörter
- skin sections of Orthonychiurus stachianus are studied by transmission electron microscopy