Wetting resistance at its topographical limit: The benefit of mushroom and serif T structures
Publikation: Beitrag in Fachzeitschrift › Forschungsartikel › Beigetragen › Begutachtung
Beitragende
Details
| Originalsprache | Englisch |
|---|---|
| Seiten (von - bis) | 1100-1112 |
| Seitenumfang | 13 |
| Fachzeitschrift | Langmuir |
| Ausgabenummer | 4 |
| Publikationsstatus | Veröffentlicht - 2013 |
| Peer-Review-Status | Ja |
Externe IDs
| researchoutputwizard | legacy.publication#77162 |
|---|---|
| Scopus | 84873123615 |
| ORCID | /0000-0003-0189-3448/work/159607148 |
Schlagworte
Schlagwörter
- skin sections of Orthonychiurus stachianus are studied by transmission electron microscopy