Wetting resistance at its topographical limit: The benefit of mushroom and serif T structures

Publikation: Beitrag in FachzeitschriftForschungsartikelBeigetragenBegutachtung

Beitragende

Details

OriginalspracheEnglisch
Seiten (von - bis)1100-1112
Seitenumfang13
FachzeitschriftLangmuir
Ausgabenummer4
PublikationsstatusVeröffentlicht - 2013
Peer-Review-StatusJa

Externe IDs

researchoutputwizard legacy.publication#77162
Scopus 84873123615
ORCID /0000-0003-0189-3448/work/159607148

Schlagworte

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  • skin sections of Orthonychiurus stachianus are studied by transmission electron microscopy