Thickness dependent barrier performance of permeation barriers made from atomic layer deposited alumina for organic devices

Publikation: Beitrag in Fachzeitschrift › Forschungsartikel › Beigetragen › Begutachtung

Beitragende

Details

OriginalspracheEnglisch
Seiten (von - bis)138-143
FachzeitschriftOrganic electronics
Jahrgang17
PublikationsstatusVeröffentlicht - Feb. 2015
Peer-Review-StatusJa

Externe IDs

Scopus 84919598730
ORCID /0000-0003-3814-0378/work/142256107

Schlagworte

Schlagwörter

  • ALD, Defect density, Thickness dependency, Electrodeposition, WVTR, OLED

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