Review and perspective on ferroelectric HfO <inf>2</inf> -based thin films for memory applications
Publikation: Beitrag in Fachzeitschrift › Forschungsartikel › Beigetragen › Begutachtung
Beitragende
Details
| Originalsprache | Englisch |
|---|---|
| Seiten (von - bis) | 795–808 |
| Seitenumfang | 14 |
| Fachzeitschrift | MRS communications |
| Jahrgang | 8 |
| Publikationsstatus | Veröffentlicht - 2018 |
| Peer-Review-Status | Ja |
Externe IDs
| Scopus | 85052932053 |
|---|