Review and perspective on ferroelectric HfO2-based thin films for memory applications

Publikation: Beitrag in Fachzeitschrift › Forschungsartikel › Beigetragen › Begutachtung

Beitragende

  • M.H. Park - , NaMLab - Nanoelectronic materials laboratory gGmbH, Pusan National University (Autor:in)
  • Y.H. Lee - , Seoul National University (Autor:in)
  • T. Mikolajick - , Professur für Nanoelektronik, NaMLab - Nanoelectronic materials laboratory gGmbH (Autor:in)
  • U. Schroeder - , NaMLab - Nanoelectronic materials laboratory gGmbH (Autor:in)
  • C.S. Hwang - , Seoul National University (Autor:in)

Details

OriginalspracheEnglisch
Seiten (von - bis)795–808
Seitenumfang14
FachzeitschriftMRS communications
Jahrgang8
PublikationsstatusVeröffentlicht - 2018
Peer-Review-StatusJa

Externe IDs

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