Next generation ferroelectric materials for semiconductor process integration and their applications

Publikation: Beitrag in Fachzeitschrift › Forschungsartikel › Beigetragen › Begutachtung

Beitragende

T. Mikolajick - , Professur für Nanoelektronik (Autor:in)
S. Slesazeck - (Autor:in)
H. Mulaosmanovic - (Autor:in)
M. H. Park - (Autor:in)
S. Fichtner - (Autor:in)
P. D. Lomenzo - (Autor:in)
M. Hoffmann - , Hochschulmedizin (Medizinische Fakultät und Universitätsklinikum) (Autor:in)
U. Schroeder - (Autor:in)

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