Multi-staged deposition of trench-gate oxides for power MOSFETs
Publikation: Beitrag in Fachzeitschrift › Forschungsartikel › Beigetragen › Begutachtung
Beitragende
Details
Originalsprache | Englisch |
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Aufsatznummer | 032202 |
Fachzeitschrift | Journal of Vacuum Science and Technology B:Nanotechnology and Microelectronics |
Jahrgang | 37 |
Publikationsstatus | Veröffentlicht - Mai 2019 |
Peer-Review-Status | Ja |
Externe IDs
Scopus | 85066156296 |
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