Mechanical stress induced polarization reorientation in polycrystalline Bi3.25La0.75Ti3O12 films

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Beitragende

  • Yi Kan - , Nanjing University (Autor:in)
  • Yunfei Liu - , Nanjing University (Autor:in)
  • Oliver Mieth - , Technische Universität Dresden (Autor:in)
  • Huifeng Bo - , Nanjing University (Autor:in)
  • Xiumei Wu - , Southeast University, Nanjing (Autor:in)
  • Xiaomei Lu - , Nanjing University (Autor:in)
  • Lukas M. Eng - , Professur für Experimentalphysik/Photophysik (Autor:in)
  • Jinsong Zhu - , Nanjing University (Autor:in)

Abstract

A wafer bending stage and a scanning probe microscope are combined to investigate the in situ domain pattern evolution in polycrystalline Bi3.25La0.75Ti3O12 films under stress. We observe the stress induced polarization reorientation that sensitively depends on the relative alignment of the BLT unit cell with respect to the stress.

Details

OriginalspracheEnglisch
Seiten (von - bis)360-365
Seitenumfang6
FachzeitschriftPhysics Letters, Section A: General, Atomic and Solid State Physics
Jahrgang374
Ausgabenummer2
PublikationsstatusVeröffentlicht - 28 Dez. 2009
Peer-Review-StatusJa

Externe IDs

ORCID /0000-0002-2484-4158/work/175744064

Schlagworte

ASJC Scopus Sachgebiete

Schlagwörter

  • Dynamic domain change, Scanning probe microscope, Stress impact, Thin film ferroelectrics