INTEGRATION OF WET-CHEMICAL PROCESSING WITH LOW-TEMPERATURE PLASMA-ASSISTED PROCESSES FOR THE FORMATION OF DEVICE-QUALITY SI/SIO2 INTERFACES ON SI(111) SURFACES

Publikation: Beitrag in Fachzeitschrift › Forschungsartikel › Beigetragen

Beitragende

  • T YASUDA - (Autor:in)
  • CH BJORKMAN - (Autor:in)
  • Y MA - (Autor:in)
  • Z LU - (Autor:in)
  • G LUCOVSKY - (Autor:in)
  • U EMMERICHS - (Autor:in)
  • C MEYER - (Autor:in)
  • H Kurz - (Autor:in)
  • Karl Leo - , Professur für Optoelektronik, Bell Laboratories Inc. (Autor:in)

Details

OriginalspracheEnglisch
Seiten (von - bis)217-222
Seitenumfang6
FachzeitschriftMicroelectronic Engineering
Ausgabenummer2-4
PublikationsstatusVeröffentlicht - 1994
Peer-Review-StatusNein

Externe IDs

Scopus 0028480990

Schlagworte