INTEGRATED PROCESSING OF STACKED-GATE HETEROSTRUCTURES - PLASMA-ASSISTED LOW-TEMPERATURE PROCESSING COMBINED WITH RAPID THERMAL HIGH-TEMPERATURE PROCESSING

Publikation: Beitrag in Fachzeitschrift › Forschungsartikel › Beigetragen

Beitragende

  • V MISRA - (Autor:in)
  • S HATTANGADY - (Autor:in)
  • XL XU - (Autor:in)
  • MJ WATKINS - (Autor:in)
  • B HORNUNG - (Autor:in)
  • G LUCOVSKY - (Autor:in)
  • JJ WORTMAN - (Autor:in)
  • U EMMERICHS - (Autor:in)
  • C MEYER - (Autor:in)
  • H Kurz - (Autor:in)
  • Karl Leo - , Professur für Optoelektronik (Autor:in)

Details

OriginalspracheEnglisch
Seiten (von - bis)209-214
Seitenumfang6
FachzeitschriftMicroelectronic Engineering
Ausgabenummer2-4
PublikationsstatusVeröffentlicht - 1994
Peer-Review-StatusNein

Externe IDs

Scopus 0028480395