Direct chemical vapor deposition of large-area carbon thin films on gallium nitride for transparent electrodes: A first attempt
Publikation: Beitrag in Fachzeitschrift › Forschungsartikel › Beigetragen › Begutachtung
Beitragende
Details
Originalsprache | Englisch |
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Seiten (von - bis) | 494-501 |
Seitenumfang | 8 |
Fachzeitschrift | IEEE transactions on semiconductor manufacturing |
Jahrgang | 25 |
Ausgabenummer | 3 |
Publikationsstatus | Veröffentlicht - 2012 |
Peer-Review-Status | Ja |
Extern publiziert | Ja |
Externe IDs
Scopus | 84864681423 |
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