Charge storage in silicon-implanted silicondioxide layers examined by scanning probe microscopy

Publikation: Beitrag in FachzeitschriftForschungsartikelBeigetragenBegutachtung

Beitragende

Details

OriginalspracheEnglisch
Seiten (von - bis)159-165
Seitenumfang7
FachzeitschriftThin Solid Films
Jahrgang513
Ausgabenummer1-2
PublikationsstatusVeröffentlicht - Aug. 2006
Peer-Review-StatusJa

Externe IDs

Scopus 33745269772

Schlagworte