Optisches Filterelement für spektroskopische Einrichtungen zur Umwandlung von spektralen Informationen in Ortsinformationen

Research output: Intellectual PropertyPatent application/Patent

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Abstract

Die Erfindung betrifft ein optisches Filterelement (50) für spektroskopische/spektrometrische Einrichtungen (70) zur Umwandlung von spektralen Informationen in Ortsinformationen mit einem zugeschalteten Detektor (30) zur Erfassung von Signalen. Das Filterelement (50) umfasst zumindest - ein transparentes, planparalleles Substrat (1), - zumindest einen auf einer der beiden sich gegenüberliegenden Oberflächen (51; 52) des Substrats (1) befindlichen Mikroresonator (10; 11), wobei der Mikroresonator (10, 11) zumindest aufweist - mindestens zwei flächendeckende reflektierende Schichtstrukturen (4, 6; 8, 9) zumindest aus einer Materialschicht (2) mit hohem Brechungsindex und zumindest aus einer Materialschicht (3) mit niedrigem Brechungsindex in abwechselnder Folge sowie - mindestens eine flächendeckende Resonatorschicht (5; 7), die zwischen den jeweils beiden flächendeckenden reflektierenden Schichtstrukturen (4, 6; 8, 9) angeordnet ist, wobei die Resonatorschicht (5; 7) und/oder die jeweils umgebende reflektierende Schichtstruktur (4, 6; 8, 9) eine nicht regelmäßige Schichtdicke entlang einer horizontalen Achse (25) des Filterelementes (50) aufweisen und wobei das optische Filterelement (5) unmittelbar vor dem signalerfassenden Detektor (30) angeordnet ist.

Details

Die Erfindung betrifft ein optisches Filterelement (50) für spektroskopische/spektrometrische Einrichtungen (70) zur Umwandlung von spektralen Informationen in Ortsinformationen mit einem zugeschalteten Detektor (30) zur Erfassung von Signalen. Das Filterelement (50) umfasst zumindest - ein transparentes, planparalleles Substrat (1), - zumindest einen auf einer der beiden sich gegenüberliegenden Oberflächen (51; 52) des Substrats (1) befindlichen Mikroresonator (10; 11), wobei der Mikroresonator (10, 11) zumindest aufweist - mindestens zwei flächendeckende reflektierende Schichtstrukturen (4, 6; 8, 9) zumindest aus einer Materialschicht (2) mit hohem Brechungsindex und zumindest aus einer Materialschicht (3) mit niedrigem Brechungsindex in abwechselnder Folge sowie - mindestens eine flächendeckende Resonatorschicht (5; 7), die zwischen den jeweils beiden flächendeckenden reflektierenden Schichtstrukturen (4, 6; 8, 9) angeordnet ist, wobei die Resonatorschicht (5; 7) und/oder die jeweils umgebende reflektierende Schichtstruktur (4, 6; 8, 9) eine nicht regelmäßige Schichtdicke entlang einer horizontalen Achse (25) des Filterelementes (50) aufweisen und wobei das optische Filterelement (5) unmittelbar vor dem signalerfassenden Detektor (30) angeordnet ist.

Original languageGerman
IPC (International Patent Classification)G02B 5/ 20 A I
Patent numberDE102014014983
Country/TerritoryGermany
Priority date7 Oct 2014
Priority numberDE20141014983
Publication statusPublished - 7 Apr 2016
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