Vergleichende untersuchungen zur anwendung von siliciumnitrid und tantalpentoxid als pH-sensitive schicht für ionensensitive feldeffekttransistoren
Publikation: Beitrag in Fachzeitschrift › Forschungsartikel › Beigetragen › Begutachtung
Beitragende
Details
Originalsprache | Deutsch |
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Seiten (von - bis) | 313-318 |
Seitenumfang | 6 |
Fachzeitschrift | VDI Berichte |
Ausgabenummer | 1255 |
Publikationsstatus | Veröffentlicht - 1996 |
Peer-Review-Status | Ja |
Externe IDs
ORCID | /0000-0003-3814-0378/work/156338373 |
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