Structural Changes Underlying Field-Cycling Phenomena in Ferroelectric HfO2 Thin Films

Publikation: Beitrag in Fachzeitschrift › Forschungsartikel › Beigetragen › Begutachtung

Beitragende

  • E.D. Grimley - , North Carolina State University (Autor:in)
  • T. Schenk - , NaMLab - Nanoelectronic materials laboratory gGmbH (Autor:in)
  • X. Sang - , North Carolina State University (Autor:in)
  • M. Pešić - , NaMLab - Nanoelectronic materials laboratory gGmbH (Autor:in)
  • U. Schroeder - , NaMLab - Nanoelectronic materials laboratory gGmbH (Autor:in)
  • T. Mikolajick - , NaMLab - Nanoelectronic materials laboratory gGmbH (Autor:in)
  • J.M. LeBeau - , North Carolina State University (Autor:in)

Details

OriginalspracheEnglisch
Aufsatznummer1600173
FachzeitschriftAdvanced electronic materials
Jahrgang2
Ausgabenummer9
PublikationsstatusVeröffentlicht - 2016
Peer-Review-StatusJa
Extern publiziertJa

Externe IDs

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