Stabilizing the ferroelectric phase in doped hafnium oxide

Publikation: Beitrag in Fachzeitschrift › Forschungsartikel › Beigetragen › Begutachtung

Beitragende

  • M Hoffmann - , Technische Universität Dresden (Autor:in)
  • U Schroeder - , Technische Universität Dresden (Autor:in)
  • T Schenk - , Technische Universität Dresden (Autor:in)
  • T Shimizu - (Autor:in)
  • H Funakubo - (Autor:in)
  • O Sakata - (Autor:in)
  • D Pohl - , Leibniz Institute for Solid State and Materials Research Dresden (Autor:in)
  • M Drescher - , Fraunhofer Institute for Photonic Microsystems (Autor:in)
  • C Adelmann - (Autor:in)
  • R Materlik - (Autor:in)
  • Thomas Mikolajick - , Professur für Nanoelektronik, Center for Advancing Electronics Dresden (cfaed), Technische Universität Dresden (Autor:in)

Details

OriginalspracheEnglisch
Seiten (von - bis)072006
Seitenumfang1
FachzeitschriftJournal of applied physics
Jahrgang118
Ausgabenummer7
PublikationsstatusVeröffentlicht - 2015
Peer-Review-StatusJa

Externe IDs

Scopus 84939864420
ORCID /0000-0002-4859-4325/work/142253297
ORCID /0000-0003-3814-0378/work/142256115

Schlagworte

Forschungsprofillinien der TU Dresden