ORGANISCHER DÜNNSCHICHT-TRANSISTOR UND VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG DESSELBEN

Publikation: Geistiges EigentumPatentanmeldung/Patent

Beitragende

Abstract

Es wird ein Organischer Dünnschicht-Transistor (OTFT), insbesondere Dünnschicht-Feldeffekttransistor (OFET), vorgeschlagen, aufweisend eine Source-Elektrode, eine Drain-Elektrode, eine in Top-Gate-Anordnung angeordnete Gate-Elektrode und eine organische Halbleiterfunktionsschicht, wobei die Source-Elektrode, die Drain-Elektrode und die Gate-Elektrode in einem koplanaren Schichtaufbau angeordnet sind, wobei der organische Dünnschicht-Transistor eine Zwischenschicht zur kapazitiven Entkopplung der Gate-Elektrode von der Source-Elektrode und/oder von der Source-Elektrode aufweist.

Details

Es wird ein Organischer Dünnschicht-Transistor (OTFT), insbesondere Dünnschicht-Feldeffekttransistor (OFET), vorgeschlagen, aufweisend eine Source-Elektrode, eine Drain-Elektrode, eine in Top-Gate-Anordnung angeordnete Gate-Elektrode und eine organische Halbleiterfunktionsschicht, wobei die Source-Elektrode, die Drain-Elektrode und die Gate-Elektrode in einem koplanaren Schichtaufbau angeordnet sind, wobei der organische Dünnschicht-Transistor eine Zwischenschicht zur kapazitiven Entkopplung der Gate-Elektrode von der Source-Elektrode und/oder von der Source-Elektrode aufweist.

OriginalspracheDeutsch
IPC (Internationale Patentklassifikation)H01L 51/ 40 A I
VeröffentlichungsnummerDE102019200810
Land/GebietDeutschland
Prioritätsdatum23 Jan. 2019
PrioritätsnummerDE201910200810
PublikationsstatusVeröffentlicht - 23 Juli 2020
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Externe IDs

ORCID /0000-0002-9773-6676/work/142659846