Next-generation ferroelectric memories based on FE-HfO2

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Beitragende

  • S. Mueller - , NaMLab - Nanoelectronic materials laboratory gGmbH, Technische Universität Dresden (Autor:in)
  • S. Slesazeck - , NaMLab - Nanoelectronic materials laboratory gGmbH, Technische Universität Dresden (Autor:in)
  • T. Mikolajick - , Professur für Nanoelektronik, NaMLab - Nanoelectronic materials laboratory gGmbH (Autor:in)
  • J. Müller - , Fraunhofer-Institut für Elektronische Nanosysteme (Autor:in)
  • P. Polakowski - , Fraunhofer-Institut für Elektronische Nanosysteme (Autor:in)
  • S. Flachowsky - , Global Foundries Dresden (Autor:in)

Details

OriginalspracheEnglisch
Titel2015 Joint IEEE International Symposium on the Applications of Ferroelectric, International Symposium on Integrated Functionalities and Piezoelectric Force Microscopy Workshop, ISAF/ISIF/PFM 2015
ISBN (elektronisch)978-1-4799-9974-3
PublikationsstatusVeröffentlicht - 2015
Peer-Review-StatusJa

Publikationsreihe

ReiheIEEE International Symposium on Applications of Ferroelectrics (ISAF)
ISSN1099-4734

Externe IDs

Scopus 84947915838

Schlagworte