Nanoscopic studies of domain structure dynamics in ferroelectric La:HfO2 capacitors

Publikation: Beitrag in Fachzeitschrift › Forschungsartikel › Beigetragen › Begutachtung

Beitragende

  • P. Buragohain - (Autor:in)
  • C. Richter - , NaMLab - Nanoelectronic materials laboratory gGmbH (Autor:in)
  • T. Schenk - , NaMLab - Nanoelectronic materials laboratory gGmbH (Autor:in)
  • H. Lu - (Autor:in)
  • T. Mikolajick - , Professur für Nanoelektronik, NaMLab - Nanoelectronic materials laboratory gGmbH (Autor:in)
  • U. Schroeder - (Autor:in)
  • A. Gruverman - (Autor:in)

Details

OriginalspracheEnglisch
Aufsatznummer222901
FachzeitschriftApplied physics letters
Jahrgang112
Ausgabenummer22
PublikationsstatusVeröffentlicht - 28 Mai 2018
Peer-Review-StatusJa

Externe IDs

Scopus 85048265461

Schlagworte

Bibliotheksschlagworte