Mononuclear precursor for MOCVD of HfO2 thin films

Publikation: Beitrag in Fachzeitschrift › Forschungsartikel › Beigetragen › Begutachtung

Beitragende

  • Arne Baunemann - , Ruhr-Universität Bochum (Autor:in)
  • Reji Thomas - , Forschungszentrum Jülich (Autor:in)
  • Ralf Becker - , Ruhr-Universität Bochum (Autor:in)
  • Manuela Winter - , Ruhr-Universität Bochum (Autor:in)
  • Roland A. Fischer - , Ruhr-Universität Bochum (Autor:in)
  • Peter Ehrhart - , Forschungszentrum Jülich (Autor:in)
  • Rainer Waser - , Forschungszentrum Jülich (Autor:in)
  • Anjana Devi - , Ruhr-Universität Bochum (Autor:in)

Abstract

We report the precursor characteristics of a novel mononuclear mixed alkoxide compound [Hf(OiPr)2(tbaoac)2] and its application towards MOCVD of HfO2 thin films in a production tool CVD reactor.

Details

OriginalspracheEnglisch
Seiten (von - bis)1610-1611
Seitenumfang2
FachzeitschriftChemical communications
Jahrgang4
Ausgabenummer14
PublikationsstatusVeröffentlicht - 2004
Peer-Review-StatusJa
Extern publiziertJa

Schlagworte

ASJC Scopus Sachgebiete

Bibliotheksschlagworte