Influence of sputtering pressure on microstructure and layer properties of iridium thin films

Publikation: Beitrag in Fachzeitschrift › Forschungsartikel › Beigetragen › Begutachtung

Beitragende

  • A. Buettner - (Autor:in)
  • A. -C. Probst - (Autor:in)
  • F. Emmerich - (Autor:in)
  • C. Damm - (Autor:in)
  • B. Rellinghaus - , Leibniz-Institut für Festkörper- und Werkstoffforschung Dresden (Autor:in)
  • T. Doehring - (Autor:in)
  • M. Stollenwerk - (Autor:in)

Details

OriginalspracheUndefiniert
Seiten (von - bis)41-46
Seitenumfang6
FachzeitschriftThin solid films
Jahrgang662
PublikationsstatusVeröffentlicht - 30 Sept. 2018
Peer-Review-StatusJa
Extern publiziertJa

Externe IDs

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