Influence of PE-CVD and PE-ALD on defect formation in permeation barrier films on PET and correlation to atomic oxygen fluence

Publikation: Beitrag in FachzeitschriftForschungsartikelBeigetragenBegutachtung

Beitragende

  • F. Mitschker - , Ruhr-Universität Bochum (Autor:in)
  • S. Steves - , Ruhr-Universität Bochum (Autor:in)
  • M. Gebhard - , Ruhr-Universität Bochum (Autor:in)
  • M. Rudolph - , Ruhr-Universität Bochum (Autor:in)
  • L. Schücke - , Ruhr-Universität Bochum (Autor:in)
  • D. Kirchheim - , Rheinisch-Westfälische Technische Hochschule Aachen (Autor:in)
  • M. Jaritz - , Rheinisch-Westfälische Technische Hochschule Aachen (Autor:in)
  • M. Brochhagen - , Ruhr-Universität Bochum (Autor:in)
  • Ch Hoppe - , Universität Paderborn (Autor:in)
  • R. Dahlmann - , Rheinisch-Westfälische Technische Hochschule Aachen (Autor:in)
  • M. Böke - , Ruhr-Universität Bochum (Autor:in)
  • J. Benedikt - , Ruhr-Universität Bochum (Autor:in)
  • I. Giner - , Universität Paderborn (Autor:in)
  • T. De los Arcos - , Universität Paderborn (Autor:in)
  • Ch Hopmann - , Rheinisch-Westfälische Technische Hochschule Aachen (Autor:in)
  • G. Grundmeier - , Universität Paderborn (Autor:in)
  • A. Devi - , Ruhr-Universität Bochum (Autor:in)
  • P. Awakowicz - , Ruhr-Universität Bochum (Autor:in)

Abstract

Defects in SiOx, TiO2 and a-Si:H inorganic barrier films on PET are investigated. Visualization is achieved by reactive oxygen etching in capacitively coupled plasma that leads to the undercutting of the barrier films at defect sites, and defect densities are deduced by SEM imaging. Defect formation is analyzed as a function of absolutely quantified steady state atomic oxygen fluence during the deposition of silicon oxide films and the effect of an additional substrate bias is presented. Macro-defect densities as a function of film thickness are tracked. Barrier films with a barrier improvement of one order of magnitude exhibit macro-defect densities below 160 defects mm-2.

Details

OriginalspracheEnglisch
Aufsatznummer235201
FachzeitschriftJournal of Physics D: Applied Physics
Jahrgang50
Ausgabenummer23
PublikationsstatusVeröffentlicht - 18 Mai 2017
Peer-Review-StatusJa
Extern publiziertJa

Schlagworte

Schlagwörter

  • atomic oxygen, barrier film, coating defects, PE-ALD, PE-CVD, polymer, silicon oxide