In Situ Time-dependent Dielectric Breakdown in the Transmission Electron Microscope: A Possibility to Understand the Failure Mechanism in Microelectronic Devices

Publikation: Beitrag in FachzeitschriftForschungsartikelBeigetragen

Beitragende

  • Zhongquan Liao - , Professur für Materialwissenschaft und Nanotechnik, Dresden Center for Nanoanalysis (DCN) (Autor:in)
  • Martin Gall - (Autor:in)
  • Kong Boon Yeap - (Autor:in)
  • Christoph Sander - (Autor:in)
  • Andre Clausner - (Autor:in)
  • Uwe Muehle - (Autor:in)
  • Juergen Gluch - (Autor:in)
  • Yvonne Standke - (Autor:in)
  • Oliver Aubel - (Autor:in)
  • Armand Beyer - (Autor:in)
  • Meike Hauschildt - (Autor:in)
  • Ehrenfried Zschech - , Fraunhofer Institute for Ceramic Technologies and Systems (Autor:in)

Details

OriginalspracheEnglisch
Aufsatznummere52447
FachzeitschriftJoVE
Jahrgang100
PublikationsstatusVeröffentlicht - 1 Juni 2015
Peer-Review-StatusNein

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