Formation and crystallographic orientation of NiSi2--Si interfaces

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Beitragende

  • Florian Fuchs - , Technische Universität Chemnitz, Fraunhofer Institute for Electronic Nano Systems, Technische Universität Dresden (Autor:in)
  • Muhammad Bilal Khan - , Professur für Nanoelektronik, Technische Universität Dresden (Autor:in)
  • Dipjyoti Deb - , Helmholtz-Zentrum Dresden-Rossendorf, Technische Universität Dresden (Autor:in)
  • Darius Pohl - , Dresden Center for Nanoanalysis (DCN) (Autor:in)
  • Jörg Schuster - , Technische Universität Chemnitz, Technische Universität Dresden (Autor:in)
  • Walter M Weber - , Technische Universität Dresden (Autor:in)
  • Uwe Mühle - , Professur für Pulvermetallurgie, Sinter- und Verbundwerkstoffe (Autor:in)
  • Markus Löffler - , Dresden Center for Nanoanalysis (DCN) (Autor:in)
  • Yordan M Georgiev - , Helmholtz-Zentrum Dresden-Rossendorf (Autor:in)
  • Artur Erbe - , Helmholtz-Zentrum Dresden-Rossendorf, Technische Universität Dresden (Autor:in)
  • Sibylle Gemming - , Technische Universität Chemnitz, Technische Universität Dresden (Autor:in)

Details

OriginalspracheEnglisch
Seiten (von - bis)085301
Seitenumfang1
FachzeitschriftJournal of applied physics
Jahrgang128
Ausgabenummer8
PublikationsstatusVeröffentlicht - 2020
Peer-Review-StatusJa

Externe IDs

Scopus 85090080562
ORCID /0000-0002-4859-4325/work/142253287

Schlagworte

Forschungsprofillinien der TU Dresden