Film properties of low temperature HfO2 grown with H2O, O3, or remote O2-plasma

Publikation: Beitrag in Fachzeitschrift › Forschungsartikel › Beigetragen › Begutachtung

Beitragende

  • C. Richter - , NaMLab - Nanoelectronic materials laboratory gGmbH (Autor:in)
  • T. Schenk - , NaMLab - Nanoelectronic materials laboratory gGmbH (Autor:in)
  • U. Schroeder - , NaMLab - Nanoelectronic materials laboratory gGmbH (Autor:in)
  • T. Mikolajick - , Professur für Nanoelektronik, NaMLab - Nanoelectronic materials laboratory gGmbH (Autor:in)

Details

OriginalspracheEnglisch
Aufsatznummer01A117
Fachzeitschrift Journal of vacuum science & technology : JVST ; A, Vacuum, surfaces, and films
Jahrgang32
Ausgabenummer1
PublikationsstatusVeröffentlicht - 2014
Peer-Review-StatusJa

Externe IDs

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