Ferroelectricity and Antiferroelectricity of Doped Thin HfO<inf>2</inf>-Based Films

Publikation: Beitrag in Fachzeitschrift › Forschungsartikel › Beigetragen › Begutachtung

Beitragende

  • Min Hyuk Park - (Autor:in)
  • Y.H. Lee - (Autor:in)
  • H.J. Kim - (Autor:in)
  • Y.J. Kim - (Autor:in)
  • T. Moon - (Autor:in)
  • K.D. Kim - (Autor:in)
  • J. Müller - (Autor:in)
  • A. Kersch - (Autor:in)
  • U. Schroeder - (Autor:in)
  • T. Mikolajick - , Professur für Nanoelektronik (Autor:in)
  • C.S. Hwang - (Autor:in)

Details

OriginalspracheEnglisch
Seiten (von - bis)1811-1831
Seitenumfang21
FachzeitschriftAdvanced materials
Jahrgang27
Ausgabenummer11
PublikationsstatusVeröffentlicht - 2015
Peer-Review-StatusJa

Externe IDs

Scopus 85027947135

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