Ferroelectricity and Antiferroelectricity of Doped Thin HfO2-Based Films

Ferroelectricity and Antiferroelectricity of Doped Thin HfO₂-Based Films

Publikation: Beitrag in Fachzeitschrift › Forschungsartikel › Beigetragen › Begutachtung

Min Hyuk Park - , Seoul National University (Autor:in)
Y.H. Lee - , Seoul National University (Autor:in)
H.J. Kim - , Seoul National University (Autor:in)
Y.J. Kim - , Seoul National University (Autor:in)
T. Moon - , Seoul National University (Autor:in)
K.D. Kim - , Seoul National University (Autor:in)
J. Müller - , Fraunhofer-Institut für Photonische Mikrosysteme (Autor:in)
A. Kersch - , Hochschule für angewandte Wissenschaften München (Autor:in)
U. Schroeder - , NaMLab - Nanoelectronic materials laboratory gGmbH (Autor:in)
T. Mikolajick - , Professur für Nanoelektronik, NaMLab - Nanoelectronic materials laboratory gGmbH (Autor:in)
C.S. Hwang - , Seoul National University (Autor:in)

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