Ferroelectric Zr0.5Hf0.5O2 thin films for nonvolatile memory applications
Publikation: Beitrag in Fachzeitschrift › Forschungsartikel › Beigetragen › Begutachtung
Beitragende
Details
| Originalsprache | Englisch |
|---|---|
| Aufsatznummer | 112901 |
| Fachzeitschrift | Applied physics letters |
| Jahrgang | 99 |
| Ausgabenummer | 11 |
| Publikationsstatus | Veröffentlicht - 2011 |
| Peer-Review-Status | Ja |
Externe IDs
| Scopus | 80053211514 |
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