Ferroelectric Zr(0.5)Hf(0.5)O(2) thin films for nonvolatile memory applications

Publikation: Beitrag in Fachzeitschrift › Forschungsartikel › Beigetragen › Begutachtung

Beitragende

T. S. Boscke - (Autor:in)
U. Bottger - (Autor:in)
D. Brauhaus - (Autor:in)
L. Frey - (Autor:in)
P. Kucher - (Autor:in)
T. Mikolajick - , Professur für Nanoelektronik, NaMLab - Nanoelectronic materials laboratory gGmbH (Autor:in)
J. Muller - (Autor:in)
U. Schroder - (Autor:in)
J. Sundqvist - , Fraunhofer-Institut für Photonische Mikrosysteme (Autor:in)