Ferroelectric negative capacitance domain dynamics

Publikation: Beitrag in Fachzeitschrift › Forschungsartikel › Beigetragen › Begutachtung

Beitragende

  • Michael Hoffmann - , University of California at Berkeley, NaMLab - Nanoelectronic materials laboratory gGmbH (Autor:in)
  • Asif Islam Khan - , Georgia Institute of Technology (Autor:in)
  • Claudy Serrao - , University of California at Berkeley (Autor:in)
  • Zhongyuan Lu - , University of California at Berkeley (Autor:in)
  • Sayeef Salahuddin - , University of California at Berkeley, Lawrence Berkeley National Laboratory (Autor:in)
  • Milan Pešić - , NaMLab - Nanoelectronic materials laboratory gGmbH (Autor:in)
  • Stefan Slesazeck - , NaMLab - Nanoelectronic materials laboratory gGmbH (Autor:in)
  • Uwe Schroeder - , NaMLab - Nanoelectronic materials laboratory gGmbH (Autor:in)
  • Thomas Mikolajick - , Professur für Nanoelektronik, NaMLab - Nanoelectronic materials laboratory gGmbH (Autor:in)

Details

OriginalspracheEnglisch
Aufsatznummer184101
FachzeitschriftJournal of applied physics
Jahrgang123
Ausgabenummer18
PublikationsstatusVeröffentlicht - 14 Mai 2018
Peer-Review-StatusJa

Externe IDs

Scopus 85047018208

Schlagworte

Bibliotheksschlagworte