Direct Observation of Negative Capacitance in Polycrystalline Ferroelectric HfO2

Publikation: Beitrag in Fachzeitschrift › Forschungsartikel › Beigetragen › Begutachtung

Beitragende

  • M. Hoffmann - , NaMLab - Nanoelectronic materials laboratory gGmbH, University of California at Berkeley (Autor:in)
  • Milan Pešić - , NaMLab - Nanoelectronic materials laboratory gGmbH (Autor:in)
  • K. Chatterjee - , University of California at Berkeley (Autor:in)
  • A.I. Khan - , University of California at Berkeley (Autor:in)
  • S. Salahuddin - , University of California at Berkeley, Lawrence Berkeley National Laboratory (Autor:in)
  • S. Slesazeck - , NaMLab - Nanoelectronic materials laboratory gGmbH (Autor:in)
  • U. Schroeder - , NaMLab - Nanoelectronic materials laboratory gGmbH (Autor:in)
  • T. Mikolajick - , Professur für Nanoelektronik, NaMLab - Nanoelectronic materials laboratory gGmbH (Autor:in)

Details

OriginalspracheEnglisch
Seiten (von - bis)8643-8649
FachzeitschriftAdvanced functional materials
Jahrgang26
Ausgabenummer47
PublikationsstatusVeröffentlicht - 2016
Peer-Review-StatusJa

Externe IDs

Scopus 84996503541

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