Correlation between the macroscopic ferroelectric material properties of Si:HfO<inf>2</inf>and the statistics of 28 nm FeFET memory arrays

Publikation: Beitrag in Fachzeitschrift › Forschungsartikel › Beigetragen › Begutachtung

Beitragende

S. Mueller - (Autor:in)
S. Slesazeck - (Autor:in)
S. Henker - , Professur für Hochparallele VLSI-Systeme und Neuromikroelektronik (Autor:in)
S. Flachowsky - (Autor:in)
P. Polakowski - , Professur für Optoelektronische Bauelemente und Systeme (gB/FG) (Autor:in)
J. Paul - (Autor:in)
E. Smith - (Autor:in)
J. Müller - (Autor:in)
T. Mikolajick - , Professur für Nanoelektronik (Autor:in)

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