Comparative Study of Photocarrier Dynamics in CVD-deposited CuWO4, CuO, and WO3 Thin Films for Photoelectrocatalysis

Publikation: Beitrag in FachzeitschriftForschungsartikelBeigetragenBegutachtung

Beitragende

  • James Hirst - , Helmholtz-Zentrum Berlin für Materialien und Energie (HZB) (Autor:in)
  • Sönke Müller - , Helmholtz-Zentrum Berlin für Materialien und Energie (HZB) (Autor:in)
  • Daniel Peeters - , Ruhr-Universität Bochum (Autor:in)
  • Alexander Sadlo - , Ruhr-Universität Bochum (Autor:in)
  • Lukas Mai - , Ruhr-Universität Bochum (Autor:in)
  • Oliver Mendoza Reyes - , Universität Ulm (Autor:in)
  • Dennis Friedrich - , Helmholtz-Zentrum Berlin für Materialien und Energie (HZB) (Autor:in)
  • Dariusz Mitoraj - , Universität Ulm (Autor:in)
  • Anjana Devi - , Ruhr-Universität Bochum (Autor:in)
  • Radim Beranek - , Universität Ulm (Autor:in)
  • Rainer Eichberger - , Helmholtz-Zentrum Berlin für Materialien und Energie (HZB) (Autor:in)

Abstract

The temporal evolution of photogenerated carriers in CuWO4, CuO and WO3 thin films deposited via a direct chemical vapor deposition approach was studied using time-resolved microwave conductivity and terahertz spectroscopy to obtain the photocarrier lifetime, mobility and diffusion length. The carrier transport properties of the films prepared by varying the copper-to-tungsten stoichiometry were compared and the results related to the performance of the compositions built into respective photoelectrochemical cells. Superior carrier mobility was observed for CuWO4 under frontside illumination.

Details

OriginalspracheEnglisch
Seiten (von - bis)699-717
Seitenumfang19
FachzeitschriftZeitschrift fur Physikalische Chemie
PublikationsstatusVeröffentlicht - 2019
Peer-Review-StatusJa
Extern publiziertJa

Schlagworte

Schlagwörter

  • carrier dynamics, CuWO, CVD, Metal oxides, photoelectrocatalysis, thin films, TRMC