ABSCHEIDEN EINER SCHICHT AUS DOTTIERTEM ORGANISCHEN MATERIAL AUF EINEM SUBSTRAT
Publikation: Geistiges Eigentum › Patentanmeldung/Patent
Beitragende
- Novaled GmbH
Abstract
Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen einer Schicht aus einem dotierten organischen Material auf einem Substrat mittels Abscheiden, wobei das dotierte organische Material mindestens ein Matrixmaterial und mindestens ein Dotierungsmaterial enthält, dadurch gekennzeichnet, daß eine Mischung des Matrixmaterials und des Dotierungsmaterials in einer gemeinsamen Verdampfungsquelle in eine Dampfphase überführt und anschließend auf dem Substrat abgeschieden wird, wobei mindestens eines des Matrixmaterials oder des Dotierungsmaterials vor der Überführung in die Dampfphase in einer porösen Trägersubstanz eingelagert wird; sowie die Verwendung eines solchen Verfahrens.
Details
Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen einer Schicht aus einem dotierten organischen Material auf einem Substrat mittels Abscheiden, wobei das dotierte organische Material mindestens ein Matrixmaterial und mindestens ein Dotierungsmaterial enthält, dadurch gekennzeichnet, daß eine Mischung des Matrixmaterials und des Dotierungsmaterials in einer gemeinsamen Verdampfungsquelle in eine Dampfphase überführt und anschließend auf dem Substrat abgeschieden wird, wobei mindestens eines des Matrixmaterials oder des Dotierungsmaterials vor der Überführung in die Dampfphase in einer porösen Trägersubstanz eingelagert wird; sowie die Verwendung eines solchen Verfahrens.
Originalsprache | Deutsch |
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IPC (Internationale Patentklassifikation) | H01L 51/ 40 A I |
Veröffentlichungsnummer | WO2007048624 |
Land/Gebiet | Deutschland |
Prioritätsdatum | 28 Okt. 2005 |
Prioritätsnummer | EP20050023595 |
Publikationsstatus | Veröffentlicht - 3 Mai 2007 |