A compact model for the grounded-gate nMOS transistor behaviour under CDM ESD stress
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Beitragende
Abstract
The parasitic bipolar transistor inherent to grounded gate nMOS transistors is modelled, accounting for the specific conditions applied by CDM ESD stress. The avalanching of both, drain and source, the triggering of snapback and the CDM-specific bipolar saturation mode are addressed. Furthermore, a fast analytical method to determine CDM ESD lumped tester parasitics from measured pulse characteristics is presented. The triggering of the grounded gate nMOS transistor under CDM is studied in detail for different gate lengths. The optimal gate length for CDM protection in advanced submicron technologies is discussed.
Details
| Originalsprache | Englisch |
|---|---|
| Seiten (von - bis) | 351-381 |
| Seitenumfang | 31 |
| Fachzeitschrift | Journal of Electrostatics |
| Jahrgang | 42 |
| Ausgabenummer | 4 |
| Publikationsstatus | Veröffentlicht - Jan. 1998 |
| Peer-Review-Status | Ja |
| Extern publiziert | Ja |
Externe IDs
| ORCID | /0000-0002-0757-3325/work/139064987 |
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Schlagworte
ASJC Scopus Sachgebiete
- Elektronische, optische und magnetische Materialien - CDM, Circuit simulation, Compact model, ESD protection
- Biotechnologie - CDM, Circuit simulation, Compact model, ESD protection
- Physik der kondensierten Materie - CDM, Circuit simulation, Compact model, ESD protection
- Oberflächen, Beschichtungen und Folien - CDM, Circuit simulation, Compact model, ESD protection
- Elektrotechnik und Elektronik - CDM, Circuit simulation, Compact model, ESD protection
Schlagwörter
- CDM, Circuit simulation, Compact model, ESD protection
Bibliotheksschlagworte
- 620 Ingenieurwissenschaften und zugeordnete Tätigkeiten - CDM, Circuit simulation, Compact model, ESD protection