Mithilfe von Reinstwasser werden Oberflächen in der Halbleiterindustrie gereinigt. Dabei muss dieses Wasser jedoch frei von jeglichen Verschmutzungen wie TOC, Partikeln oder Ionen sein. Um die Reinstwasserqualität zu erhöhen, soll ein Nanofilter zum Einsatz kommen, welche in erster Linie kolloidal gelöste Stoffe aus diesem Wasser entfernen soll. Dieser neuartige Filter muss zuvor jedoch einigen Tests unterzogen werden, damit keine Verunreinigungen in das Reinstwasser eingetragen werden. Bei diesen Tests handelt es sich um so genannte Leachout- Versuche. Diese sind gesondert für Gehäuse und für die Filterkerze durchzuführen um die Sauberkeit der Herstellung dieser Elemente zu überprüfen. Weiterhin soll die Funktionalität des Filters untersucht werden. Dazu sind Versuche zur Untersuchung der Durchfluss- Kolloidkonzentration geplant. Abschließend soll eine Aussage getroffen werden, ob der Filter für den Einsatz in der Reinstwasseraufbereitung des Halbleiterherstellers X geeignet ist.

High purity water is used to clean surfaces in the semiconductor industry. This water must be free of all contaminants such as TOC, particles or ions. A nanofiltration to remove colloidal solutes should be increase the quality of the ultrapure water.
The new filter must be tested first, so that no impurities are introduced in the high purity water.
These tests are called leachout- attempts. These must have performed separately for the housing and the filter cartridge to verify the cleanliness of the production of these elements.
Furthermore, the functionality of the filter is to be investigated. Attempts to study the flow-colloid concentration correlation are planned after the leachout- tests. Finally, should give a statement whether the filter is suitable for use in ultrapure water treatment of the semiconductor manufacturer X.