Tailored magnetic fields for controlling the electrochemical deposition of metal

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Beitragende

  • G. Mutschke - (Autor:in)
  • S. Mühlenhoff - (Autor:in)
  • X. Yang - (Autor:in)
  • K. Eckert - (Autor:in)
  • K. Tschulik - (Autor:in)
  • M. Uhlemann - (Autor:in)
  • J. Fröhlich - (Autor:in)
  • A. Bund - (Autor:in)

Details

OriginalspracheEnglisch
PublikationsstatusVeröffentlicht - 2015
Peer-Review-StatusNein

Externe IDs

ORCID /0000-0003-1653-5686/work/170585289

Schlagworte

Schlagwörter

  • Tailored magnetic fields