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2178 Ergebnisse für: "Allgemeine Chemie"
  1. Veröffentlicht

    Shape-adaptive single-molecule magnetism and hysteresis up to 14 K in oxide clusterfullerenes Dy2O@C72 and Dy2O@C74 with fused pentagon pairs and flexible Dy-(μ2-O)-Dy angle

    Velkos, G., Yang, W., Yao, Y. R., Sudarkova, S. M., Liu, X., Büchner, B., Avdoshenko, S. M., & 2 weitereChen, N. & Popov, A. A., 14 Mai 2020, in: Chemical science. 11, 18, S. 4766-4772 7 S.

    Publikation: Beitrag in Fachzeitschrift › Forschungsartikel › Beigetragen › Begutachtung

  2. Veröffentlicht

    Magnetic Nanoparticle Chains in Gelatin Ferrogels: Bioinspiration from Magnetotactic Bacteria

    Sturm, S., Siglreitmeier, M., Wolf, D., Vogel, K., Gratz, M., Faivre, D., Lubk, A., & 3 weitereBüchner, B., Sturm, E. V. & Cölfen, H., 1 Nov. 2019, in: Advanced functional materials. 29, 45, 1905996.

    Publikation: Beitrag in Fachzeitschrift › Forschungsartikel › Beigetragen › Begutachtung

  3. Veröffentlicht

    Charge-Transfer Complexes of Linear Acenes with a New Acceptor Perfluoroanthraquinone. The Interplay of Charge-Transfer and F···F Interactions

    Kataeva, O., Ivshin, K., Metlushka, K., Latypov, S., Nikitina, K., Zakharychev, D., Laskin, A., & 7 weitereAlfonsov, V., Sinyashin, O., Mgeladze, E., Jäger, A., Krupskaya, Y., Büchner, B. & Knupfer, M., 4 Sept. 2019, in: Crystal Growth and Design. 19, 9, S. 5123-5131 9 S.

    Publikation: Beitrag in Fachzeitschrift › Forschungsartikel › Beigetragen › Begutachtung

  4. Low-Temperature Atomic Layer Deposition of Low-Resistivity Copper Thin Films Using Cu(dmap)2 and Tertiary Butyl Hydrazine

    Väyrynen, K., Mizohata, K., Räisänen, J., Peeters, D., Devi, A., Ritala, M. & Leskelä, M., 8 Aug. 2017, in: Chemistry of materials. 29, 15, S. 6502-6510 9 S.

    Publikation: Beitrag in Fachzeitschrift › Forschungsartikel › Beigetragen › Begutachtung

  5. Low-Temperature Atomic Layer Deposition of Cobalt Oxide as an Effective Catalyst for Photoelectrochemical Water-Splitting Devices

    Kim, J., Iivonen, T., Hämäläinen, J., Kemell, M., Meinander, K., Mizohata, K., Wang, L., & 4 weitereRäisänen, J., Beranek, R., Leskelä, M. & Devi, A., 25 Juli 2017, in: Chemistry of materials. 29, 14, S. 5796-5805 10 S.

    Publikation: Beitrag in Fachzeitschrift › Forschungsartikel › Beigetragen › Begutachtung

  6. An efficient PE-ALD process for TiO2 thin films employing a new Ti-precursor

    Gebhard, M., Mitschker, F., Wiesing, M., Giner, I., Torun, B., De Los Arcos, T., Awakowicz, P., & 2 weitereGrundmeier, G. & Devi, A., 7 Feb. 2016, in: Journal of Materials Chemistry C. 4, 5, S. 1057-1065 9 S.

    Publikation: Beitrag in Fachzeitschrift › Forschungsartikel › Beigetragen › Begutachtung

  7. Metal-organic CVD of Y2O3 Thin Films using Yttrium tris-amidinates

    Karle, S., Dang, V. S., Prenzel, M., Rogalla, D., Becker, H. W. & Devi, A., 1 Dez. 2015, in: Chemical Vapor Deposition. 21, 10-12, S. 335-342 8 S.

    Publikation: Beitrag in Fachzeitschrift › Forschungsartikel › Beigetragen › Begutachtung

  8. Atomic layer deposition of TiO2 and ZrO2 thin films using heteroleptic guanidinate precursors

    Kaipio, M., Blanquart, T., Banerjee, M., Xu, K., Niinistö, J., Longo, V., Mizohata, K., & 3 weitereDevi, A., Ritala, M. & Leskelä, M., 1 Sept. 2014, in: Chemical Vapor Deposition. 20, 7-9, S. 209-216 8 S.

    Publikation: Beitrag in Fachzeitschrift › Forschungsartikel › Beigetragen › Begutachtung

  9. Surface decoration of ε-Fe2O3 nanorods by CuO via a two-step CVD/sputtering approach

    Barreca, D., Carraro, G., Peeters, D., Gasparotto, A., Maccato, C., Kessels, W. M. M., Longo, V., & 4 weitereRossi, F., Bontempi, E., Sada, C. & Devi, A., 1 Sept. 2014, in: Chemical Vapor Deposition. 20, 7-9, S. 313-319 7 S.

    Publikation: Beitrag in Fachzeitschrift › Forschungsartikel › Beigetragen › Begutachtung

  10. MOCVD of TiO2 thin films using a heteroleptic titanium complex: Precursor evaluation and investigation of optical, photoelectrochemical and electrical properties

    Banerjee, M., Dang, V. S., Bledowski, M., Beranek, R., Becker, H. W., Rogalla, D., Edengeiser, E., & 3 weitereHavenith, M., Wieck, A. D. & Devi, A., 1 Sept. 2014, in: Chemical Vapor Deposition. 20, 7-9, S. 224-233 10 S.

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