Pyroelectricity of silicon-doped hafnium oxide thin films
Publikation: Beitrag in Fachzeitschrift › Forschungsartikel › Beigetragen › Begutachtung
Beitragende
Details
| Originalsprache | Englisch |
|---|---|
| Aufsatznummer | 142901 |
| Fachzeitschrift | Applied physics letters |
| Jahrgang | 112 |
| Publikationsstatus | Veröffentlicht - 2 Apr. 2018 |
| Peer-Review-Status | Ja |
Externe IDs
| Scopus | 85044970152 |
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