Lanthanum-Doped Hafnium Oxide: A Robust Ferroelectric Material

Publikation: Beitrag in Fachzeitschrift › Forschungsartikel › Beigetragen › Begutachtung

Beitragende

Uwe Schroeder - (Autor:in)
Claudia Richter - (Autor:in)
Min Hyuk Park - (Autor:in)
Tony Schenk - , Fakultät Elektrotechnik und Informationstechnik (Autor:in)
Milan Pesic - , Fakultät Elektrotechnik und Informationstechnik (Autor:in)
Michael Hoffmann - , Professur für Nanoelektronik (Autor:in)
Franz P. G. Fengler - , Professur für Nanoelektronik (Autor:in)
Darius Pohl - , Leibniz-Institut für Festkörper- und Werkstoffforschung Dresden (Autor:in)
Bernd Rellinghaus - , Leibniz-Institut für Festkörper- und Werkstoffforschung Dresden (Autor:in)
Chuanzhen Zhou - (Autor:in)
Ching-Chang Chung - (Autor:in)
Jacob L. Jones - (Autor:in)
Thomas Mikolajick - , Professur für Nanoelektronik (Autor:in)