Film properties of low temperature HfO2 grown with H 2O, O3, or remote O2-plasma

Publikation: Beitrag in Fachzeitschrift › Forschungsartikel › Beigetragen › Begutachtung

Beitragende

Details

OriginalspracheEnglisch
Aufsatznummer01A117
Fachzeitschrift Journal of vacuum science & technology : JVST ; A, Vacuum, surfaces, and films
Jahrgang32
Ausgabenummer1
PublikationsstatusVeröffentlicht - 2014
Peer-Review-StatusJa

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