EFFECTS OF THIN-FILM DEPOSITION RATES, AND PROCESS-INDUCED INTERFACIAL LAYERS ON THE OPTICAL-PROPERTIES OF PLASMA-DEPOSITED SIO2/SI3N4 BRAGG REFLECTORS

Publikation: Sonstige Veröffentlichung › Sonstiges › Beigetragen

Beitragende

Details

OriginalspracheDeutsch
Seitenumfang7
Band11
PublikationsstatusVeröffentlicht - 1993
Peer-Review-StatusNein
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