Correlation between Topological Band Character and Chemical Bonding in a Bi14Rh3I9-Based Family of Insulators

Correlation between Topological Band Character and Chemical Bonding in a Bi₁₄Rh₃I₉-Based Family of Insulators

Publikation: Beitrag in Fachzeitschrift › Forschungsartikel › Beigetragen › Begutachtung

B. Rasche - , Professur für Anorganische Chemie (II) (AC2) (Autor:in)
A. Isaeva - , Professur für Anorganische Chemie (II) (AC2) (Autor:in)
M. Ruck - , Professur für Anorganische Chemie (II) (AC2), Max-Planck-Institut für Chemische Physik fester Stoffe (Autor:in)
K. Koepernik - , Leibniz-Institut für Festkörper- und Werkstoffforschung Dresden, Technische Universität Dresden (Autor:in)
M. Richter - , Leibniz-Institut für Festkörper- und Werkstoffforschung Dresden, Technische Universität Dresden (Autor:in)
J. van den Brink - , Professur für Festkörpertheorie (gB/IFW), Dresden Center for Computational Materials Science (DCMS), Leibniz-Institut für Festkörper- und Werkstoffforschung Dresden (Autor:in)

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ORCID	/0000-0002-2391-6025/work/159171878